實驗室供氣系統是半導體生產過程中必不可或缺的系統，其直接影響全廠生產的運行和產品的質量。相比較而言，集成電路芯片制造廠由于工藝技術難度更高、生產過程更為復雜，因此所需的氣體種類更多、品質要求更高、用量更大，也就更具有代表性。實驗室供氣系統是在氣柜基礎上開發出來的，可以持續進行超大流量不間斷供應特氣的供應系統。

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產出來的，液態氣體色澤也會不一樣，氬氣一般用作創造鍍膜的環境鍍鈦和鉻時，工業氣體充入氮氣可生產出銀色和黃色的產品而想要生產出黑色或灰色的產品

在新能源汽車的發展版圖中，還有一種驅動模式悄然興起，這就是氫燃料電池驅動。氫燃料電池驅動汽車擁有遠超電力驅動汽車的續航里程，充電3分鐘開車24小時將不再是夢想。

面對實驗室突發火災情況 我們要掌握以下滅火基礎知識 以備不時之需 滅火基本方法

通常半導體生產行業，將氣體劃分成常用氣體和特殊氣體兩類。其中，常用氣體指集中供給而且使用非常多的氣體

　實驗室用氣有部分氣體具有易燃、易爆、有毒、強腐蝕等特性，其一旦泄漏，就可能會對工作人員及儀器設備造成傷害。

在半導體化合物生產過程中，除了純特種氣體之外，還需要部分混合氣體，主要包括SiH4/H2.SiH4/N2作為成膜源用量盡管不大，但是對產品質量要求極高，配制混合氣體的露點達到-95℃以下，只有這樣才可以保證外延片生長的成品率。

　　實驗室氣體管路布線注意事項 　　1.氣瓶間內壓力調節面板與實驗室內的氣路終端之間選用SS316LBA管進行連接，管道內表面光潔度為Ra<0.4umBA級管道。