隨著集成電路芯片制造的工藝越來越先進，目前的工藝制程已達到7納米，下一步目標將是5納米。制造工藝技術的不斷提升帶來的變化就是需要使用更多新材料、特殊氣體。

高純氣體管道配管所有高純度、高潔凈的氣體均需通過管路輸送到設備用點(POU)，為了達到工藝對氣體的質量要求，在氣體出口指標一定的情況下，則更需重視配管系統的材料選用和施工質量。除取決于制氣或凈化設備的精度外，在很大程度上受到管路系統諸多因素的影響，因此，管材的選取應恪守相關行業原則，并在圖紙中注明管道材質。