實驗室供氣系統是半導體生產過程中必不可或缺的系統，其直接影響全廠生產的運行和產品的質量。相比較而言，集成電路芯片制造廠由于工藝技術難度更高、生產過程更為復雜，因此所需的氣體種類更多、品質要求更高、用量更大，也就更具有代表性。實驗室供氣系統是在氣柜基礎上開發出來的，可以持續進行超大流量不間斷供應特氣的供應系統。

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產出來的，液態氣體色澤也會不一樣，氬氣一般用作創造鍍膜的環境鍍鈦和鉻時，工業氣體充入氮氣可生產出銀色和黃色的產品而想要生產出黑色或灰色的產品

在新能源汽車的發展版圖中，還有一種驅動模式悄然興起，這就是氫燃料電池驅動。氫燃料電池驅動汽車擁有遠超電力驅動汽車的續航里程，充電3分鐘開車24小時將不再是夢想。

通常半導體生產行業，將氣體劃分成常用氣體和特殊氣體兩類。其中，常用氣體指集中供給而且使用非常多的氣體

　實驗室用氣有部分氣體具有易燃、易爆、有毒、強腐蝕等特性，其一旦泄漏，就可能會對工作人員及儀器設備造成傷害。

在半導體化合物生產過程中，除了純特種氣體之外，還需要部分混合氣體，主要包括SiH4/H2.SiH4/N2作為成膜源用量盡管不大，但是對產品質量要求極高，配制混合氣體的露點達到-95℃以下，只有這樣才可以保證外延片生長的成品率。

　　實驗室氣路設計規劃要點-氣路施工要求 　　一、管路設計、規劃要點 　　1、為了方便更換氣瓶，從上述氣瓶接頭到調節閥之間應設有耐高壓的金屬軟管。 　　2、在整個系統中，為了防止回火現象的發生,應加裝防爆逆止閥。 　　3、氣體進人使用點前，為了便于控制氣體開關，應設有使用點球閥。 　　4、為了保持氣體的純度及管道系統的氣密性，所有管道采用316L不銹鋼管道,內表面經AP處理。

　　在各大科研實驗室中，不管是為了實驗溶解試樣的燃氣還是分析儀器所需要的高純載氣，都需要通過實驗室氣路系統進行集中供氣，這樣不僅是使用方便，還有保護氣體純度、提高用氣安全等特點。